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第147章 四重曝光工艺良率大幅提升,晶圆厂的动力

  第147章 四重曝光工艺良率大幅提升,晶圆厂的动力 (第2/2页)
  
  于东内心也是很感慨,哪怕上次跟纪弘交谈的时候,纪弘就跟他说过产线优化和升级的事儿,但看到最终的效果的时候,他还是很诧异——计划跟结果从来都不是完全一体的,纪弘说的时候,也只是说要尝试。
  
  但结果真正摆在眼前的时候,那剩下的就唯有震撼了——毕竟,这是他们努力了两年都没能做到的事情。
  
  纪弘过去才多久?一个月不到吧?也就二十天!
  
  这一次来河州之前,华为再次开了一次临时的董事大会,确定了类思维AI对工业领域,尤其是精密工业领域,也有着非常大的作用。
  
  这就完全不得了了。
  
  卷耳智能科技在华为那里的分量又大了一分。
  
  而于东此行,目的很明确:给自家所有产线按照纪弘的这个标准进行系统重构和改造——之前纪弘给他们的只是晶圆和掩膜版对准工艺提升的一个算法。
  
  “其实暂时没必要。”纪弘说道:
  
  “给你们的那个就是这次主要优化和改动的部分,其他环节优化的有限。良率和产能的提升也很小,只是稳定性稍微好了一点点。
  
  “没有必要再次停机去做升级,不够耽误时间的。”纪弘建议道:“不如等到EDA这边开发测试完成了,再统一一次性搞定。”
  
  “也行!”于东急匆匆的过来,其实更多的是态度。
  
  原本,于东对纪弘整合EDA和晶圆工厂,还持有乐观但谨慎的态度——想要如此多的晶圆厂共同配合,难度实在是太高了。
  
  但现在,晶圆厂的动力来了。
  
  就不说灵韵EDA怎么样,光是对产线改造的这种效果,尤其是良率和产能的提升,哪个晶圆厂能够拒绝啊?
  
  良率和产能,对于晶圆工厂来说,那就是生命啊!
  
  到了这个程度,纪弘对整合EDA和晶圆工厂的谋划,可以说已经成功了一大半,剩下的,就看时间了。
  
  于东这次来,也是给纪弘送助力的——他又带来了一批华为的EDA团队成员,加入高级别灵韵的开发中。
  
  “嗯,”纪弘点了点头:“我正头疼缺人的问题呢,于总这真是雪中送炭啊!”
  
  EDA的开发工作量非常大,哪怕有灵犀也不能完全解决这个问题。
  
  关键点就在于不同产线需要不同的调整,尤其是“流片式仿真”这个模块,仿真工具想要做到流片的效果,那就要求仿真的原始数据和真实产线的情况一一匹配,说通俗一些,就是要把产线映射到工具里,将产线数字化。
  
  每一条产线,哪怕是同时建设、设备一致的产线,细微处可能都略有不同,而且经过不断的运行,相关的东西也会产生一些细微的变化,所以,想要做到流片式的仿真,还需要不断的根据产线的运转情况进行参数调整。
  
  哪怕有灵犀、有强大的AI辅助,这个工作量也是非常庞大的。
  
  华为也正是看到这一点,再一次的精简了自己的人员,送来卷耳智能科技这边——以灵韵现在的进度和能力,华为也已经决定后续芯片设计渐渐地转到灵韵这个平台了,自己那边的EDA渐渐退场。
  
  ……
  
  纪弘和于东在交流,张建在一旁听着,内心也是感慨不已。
  
  他还记得,第一次跟纪弘提及高端产能不足这个情况的时候,纪弘随口说了一句:我来解决,不够挤也要挤出来。
  
  当时,他还不太明白,这个挤是怎么挤的。
  
  但现在他明白了——就光这一个系统的改造,就提升了至少20%以上的高端产能!
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